核心服务
高纯电子级试剂研发
针对半导体湿法工艺材料的特殊需求，我们提供从实验室开发到中试扩产的全套定制化服务。如果标准产品无法满足特定的工艺窗口，PG电子的团队会与客户共同开发特定比例的复配试剂，适合处于新工艺研发阶段的高科技企业。
精密蚀刻液
专门用于铝、铜、钼、钛等金属层的选择性蚀刻。产品具有较低的侧向蚀刻率和较长的槽寿命。无论是用于功率器件的金属化工艺，还是薄膜晶体管的线路加工，都能提供稳定的蚀刻速率，特别适合追求工艺一致性的制造产线。
光刻辅助材料
涵盖显影液、剥离液及光刻胶稀释剂。这些产品配合主流光刻工艺使用，能精准控制图形的分辨率和完整性。针对OLED及LCD面板生产过程中的大面积涂布需求，PG电子优化了润湿性能，适合需要高精度图形转移的显示器制造企业。
高纯清洗系列
该系列包含用于去除晶圆表面微尘、有机物及金属离子的各类酸碱试剂。产品适用于半导体前段制程及平板显示器的阵列段清洗，能有效提高基材洁净度，解决颗粒残留导致的电路失效问题，适合对收率有严格要求的晶圆加工厂。